Гендиректор Intel вважає, що компанія поспішила з освоєнням норм 10 нм

Під час конференції Brainstorm Tech, організованої виданням Fortune, генеральний директор Intel Боб Свон (Bob Swan) розповів про поточний стан Intel і напрямки майбутнього розвитку. Відповідаючи на питання про припинення дії закону Мура, глава Intel визнав, що “занадто агресивний” підхід до збереження темпу освоєння нових технологічних норм вийшов компанії боком.

Замість того, щоб як і раніше кожні два роки підвищувати щільність компонування транзисторів в два рази, фахівці Intel спробували на черговому етапі отримати приріст в 2,7 рази, зробивши крок від 14 нм відразу до 10 нм. Підсумком стала п’ятирічна затримка поставок 10-нанометрової продукції.

Гендиректор Intel запевнив, що на наступному кроці компанія повернуться до колишнього темпу: через два роки розпочнеться випуск 7-нанометровій продукції, яка по щільності компонування транзисторів буде в два рази перевершувати 10-нанометрову. Як стверджується, ця технологія вже знаходиться в розробці.

Якщо ви знайшли помилку, будь ласка, виділіть фрагмент тексту та натисніть Ctrl+Enter.

НАПИСАТИ ВІДПОВІДЬ

введіть свій коментар!
введіть тут своє ім'я